等離子清洗常用于光刻膠的去除工藝中,在等離子體反應系統中通入少量的氧氣,在強電場作用下,使氧氣產生等離子體,迅速使光刻膠氧化成為可揮發性氣體狀態物質被抽走。這種清洗技術在去膠工藝中具有操作方便、效率高、表面干凈、無劃傷、有利于確保產品的質量等優點,而且它不用酸、堿及有機溶劑等,因此越來越受到人們重視。。
等離子清洗機是干洗，什么單體對PET有附著力主要清洗微小的氧化物和污染物。它是利用工作氣體在電磁場作用下激發等離子體，與物體表面產生物理化學反應，從而達到清洗的目的；超聲波清洗機是一種濕式清洗，主要清洗明顯的灰塵和污染物，屬于粗清洗。它是利用液體（水或溶劑）在超聲波振動的作用下對物體進行清洗，從而達到清洗的目的。使用目的不同。等離子清洗機主要是為了提高清洗物品表面的貼合效果。工件表面不一定洗干凈，但貼合效果遠高于不用。
經過等離子體處理的物體表面往往會形成許多新的粒子活性基團，什么單體對PET有附著力使物體表面“活(變)”而改變性能，可以大大提高物體表面的潤濕性能和粘附性能，這對許多材料來說是非常重要的。因此，等離子清洗具有許多溶劑濕法清洗所不能比擬的優點。與濕法清洗相比，等離子體清洗的優點表現在以下幾個方面:等離子體清洗后，被清洗的物體已經非常干燥，無需經過干燥處理即可送往下一道工序。
等離子體是材質的1種狀況下，什么單體對PET有附著力也叫做材質的第四態。對汽體釋放充足的動能使之離化便成為等離子狀況下。等離子體的“特異性”組分涵蓋：離子、電子、特異性基團、激發態的核素（亞穩態）、光子等。等離子清洗機就是通過靈活運用這些特異性組分的性質來處置樣品表層，進而達到清理等目地。（2）等離子設備的機理它首要依賴等離子體中特異性顆粒物的活化功能來除去物件表面上的污垢。
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（4）還可以利用狀態監測進行趨向管理，即對測出的數據進行外推，以便預測其可能超出允許值的時間，提前安排維修。 設備的維修是設備管理的一部分，傳統意義上的維修只是為了保證企業設備的正常運行，維持企業的持續性生產。而隨著科技的進步，這種意義上的維修已嚴重落后。
無磁冷等離體中的波具有光波，其速度大于其真空光速c。對磁等離子體來說，它具有各向異性，介電常數也就變成了張量。就像在其它各向異性介質中會有兩支波一樣，磁化冷等離子體中也存在兩種波：普通波和非常波。 等離子體的折射率n=0時，波被截斷并反射，當n→∞時，波與共振粒子發生作用而被粒子吸收。
批量配氣系統中集中儲氣供氣的優點一是供氣可靠穩定，二是減少了雜質顆粒的污染源，二是減少了日常供氣中的人為干擾。常見的氣體通常分為惰性氣體、還原性氣體和氧化性氣體，如表 6.1 所示。
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