等離子體的”活性”組分包括:離子、電子、活性基團、激發態的核素(亞穩態)、光子等。等離子體表面處理儀就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面,從而實現清潔、改性、光刻膠灰化等目的。

電離度在1%以上（β≥10-2）的稱為強電離等離子體，附著力5B國家標準火焰中的等離子體大部分為中性粒子（β> Ti 和 Te >> Tn，因為電子在與離子和中性粒子碰撞的過程中幾乎沒有損失能量。這種等離子體稱為冷等離子體。當然，即使在高壓下，也可以在不引起電暈放電和電弧滑動射流放電等熱效應的短脈沖放電模式下產生低溫等離子體。在大氣壓下輝光放電技術也成為世界各國研究的熱點。

PLASMA等離子體與催化劑作用機理初探：PLASMA等離子體與各種催化劑作用下CO2氧化CH4為C2烴的反應研究結果表明，附著力5B國家標準PLASMA等離子體與催化劑作用機理純. 它不同于正常的等離子體和正常的催化劑活化。相比之下，純等離子等離子體作用下CH4轉化反應的CO2氧化是自由基過程，目標產物選擇性低，催化劑無催化活性。低于 80°C。

是一家專業從事等離子表面處理設備研發、生產、銷售為一體的高新技術企業。依托十余年等離子體表面處理設備制造行業經驗，附著力5B國家標準以及與國際知名等離子體相關配件廠商的良好合作，設計研發了BP-880系列真空等離子體表面處理設備，產品質量和表面處理效果完全可以替代進口，一舉打破了同類產品完全從美國、日本、德國等國家和臺灣地區進口的局面。

附著力5B國家標準

近期，GLOBALFOUNDRIES 接二連三的蓬勃發展，GLOBALFOUNDRIES 誕生，與新加坡特許公司合并，三星、英特爾等公司也涉足代工領域。。表面處理需要在處理過程中對許多半導體材料進行清洗和蝕刻，以確保產品質量。因此，在半導體行業，低溫等離子清洗技術和半導體真空低溫等離子清洗應用越來越受到關注。冷等離子清洗是半導體封裝制造行業常用的化學形式。

附著力5b是多少兆帕