目前等離子清洗按形式分二大類(lèi)：
①，真空等離子清洗
真空等離子清洗是在一個(gè)密閉的真空腔內(nèi)，加注不同種類(lèi)的氣體，使氣壓保持在10~100Pa，激發(fā)等離子體.對(duì)產(chǎn)品表面進(jìn)行清洗，材料改性及微蝕刻。
②，大氣等離子清洗,也叫常壓等離子清洗，射流等離子清洗。
大氣等離子清洗，是在自然環(huán)境下，激發(fā)等離子體，使用壓縮空氣使等離子體按氣流方向經(jīng)噴嘴噴射出來(lái)，從而對(duì)產(chǎn)品表面進(jìn)行微蝕刻，提升表面張力。
按頻率分三大類(lèi)：
1，頻率在KHZ的中頻等離子，頻率在MHZ的射頻等離子，頻率在GHZ的微波等離子
